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无图案晶圆缺陷检测仪

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无图案晶圆缺陷检测仪Lumina AT1

产品时间:2023-02-27 18:20:05

简要描述:

无图案晶圆缺陷扫描仪,采用激光扫描技术的全尺寸晶圆光学表面缺陷检测与分类系统。...

详细介绍

产品名称:光学表面缺陷分析仪

品牌:Lumina Instruments

型号:AT1

关键词标签:表面缺陷、缺陷检测、缺陷分析 

 

一、简介

Lumina AT1光学表面缺陷分析仪可对玻璃、半导体及光电子材料进行先进的表面检测。Lumina AT1既能够检测SiCGaN、蓝宝石和玻璃等透明材料,又能对Si、砷化镓、磷化铟等不透明基板进行检测,其价格优势使其成为适合于研发/小批量生产过程中品质管理及良率改善的有力工具。

                                             

Technology_Scan.png

Lumina AT1结合散射测量、椭圆偏光、反射测量与表面斜率等基本原理,以非破环性方式对Wafer表面的残留异物,表面与表面下缺陷,形状变化和薄膜厚度的均匀性进行检测。

1.偏振通道用于薄膜、划痕和应力点;

2.坡度通道用于凹坑、凸起;

3.反射通道用于粗糙表面的颗粒;

4.暗场通道用于微粒和划痕;

Lumina AT1拥有极高的灵敏度,使用于新产品开发和生产管控,是一套极具成本效益的解决方案。

二、功能

l  主要功能

1.      缺陷检测与分类

2.      缺陷分析

3.      薄膜均一性测量

4.      表面粗糙度测量

5.      薄膜应力检测

l  技术特点

1.透明、半透明和不透明的材料均可测量,比如硅、化合物半导体或金属基底;

2.实现亚纳米的薄膜涂层、纳米颗粒、划痕、凹坑、凸起、应力点和其他缺陷的全表面扫描和成像;

3.150mm晶圆全表面扫描的扫描时间为3分钟,50x50mm样品30秒内可完成扫描并显示结果;

4.高抗震性能,系统不旋转,形状无关,可容纳非圆形和易碎的基底材料;

5.高达300x300mm的扫描区域;可定位缺陷,以便进一步分析;技术能力

三、应用

1.      透明/非透明材质表面缺陷检测

2.      MOCVD外延生长成膜缺陷管控

3.      PR膜厚均一性评价

4.      Clean制程清洗效果评价

5.      WaferCMP后表面缺陷分析

6.      多个应用领域,如AR/VRGlass、光掩模版、蓝宝石、Si wafer

应用.jpg

 


 


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