无掩膜光刻技术（激光直写）

激光直写技术是一种无需掩模、适用面广、性价比高的微纳米加工手段，目前已经广泛应用于微机电系统、掩模板、微流控、微纳光学器件、超材料等微纳米制造领域。随着纳米技术的飞速发展，器件和结构变得越来越小，面对的场景也越来越复杂多样。

目前比较常见的一种技术是基于数字微镜器件( Digital Micromirror Device, DMD)的激光直写技术，简称为数字光刻技术。此种激光直写技术主要用于掩模制造和晶片直写。基于DMD的无掩模数字光刻机采用DMD芯片作为“数字掩模”来取代传统投影光刻机的中间掩模版，通过透镜微缩可将DMD中的每个近十微米级的镜片反射光缩小到亚微米级光斑(也就是“像素”)并直接投影到基片上。

优势：

结构紧凑-占地面积小

低成本-无掩模成本

快速使用-无需制备掩模版

易于设计-标准CAD格式的兼容性

三维图形化-灰度光刻技术

应用： 

光电半导体器件的开发

通信设备的开发

光固化材料的开发

MEMS微机电系统

生物、生命科学、复杂化学（微流控技术）

局部曝光和选择性曝光的应用，等等。

与E beam光刻技术的混合与匹配

工业领域(网纹和光罩生产、微模具、化合物半导体制造等)