无掩膜激光直写 DL-series
产品名称：无掩膜激光直写系统
品牌：NSS (Nano System Solutions)
型号：DL-1000i
关键词：激光直写，无掩膜曝光，无掩膜光刻
一、简介
日本Nano System Solutions公司成立于2004年12月，由国家先进工业科学技术研究所支持。 该公司以独特的光学技术为核心，最初是一家以研发为导向的企业，响应超精细加工和测量等先进特殊技术领域的需求。DL-series无掩膜激光直写系统采用作为空间光调制器之一的数字微镜装置（Digital Micromirror Device：DMD）作为曝光图案生成器，这是一种将DMD上放映的图案数据缩小投影到光刻胶上的数字曝光装置。因为可以直接输入曝光在电脑上制作的曝光图案，所以可以自由地创建曝光模式。
二、技术规格
分辨率：0.5um分辨率（1um或2um分辨率可供选择）
样品尺寸：支持300mm*300mm(可向下兼容)
激光波长：365nm LED & 375nm LD
可用于3D结构设计
|
Model |
DL-1000i |
|||||
|
Application |
For R&D |
For R&D, High TP |
||||
|
Substrate size/ Exp.area |
Size: ＜100mm ,＜200mm, ＜300mm, Thickness: 0.05mm-7mm |
|||||
|
Wavelength |
365nm LED |
375nm LD |
||||
|
Minimum structure size |
＜0.5um |
＜1 um |
＜0.5um |
＜1 um |
||
|
Writing speed（mm2 / min） |
＞200 |
＞500 |
＞400 |
＞1800 |
||
三、应用
光刻掩模版，压印模板加工
光电半导体器件的开发
通信设备的开发
光固化材料的开发
生物，生命科学，复杂化学（微TAS，微流控技术）
局部曝光和选择性曝光
