紫外光刻机H19-13

产品名称：紫外光刻机

品牌：HYDX

型号：H19-13

关键词：紫外光刻，接触式曝光，曝光机

一、简介

光刻机是光刻工艺过程的重要设备，本机型主要用于中小规模集成器件芯片、薄膜器件芯片、 声表面波器件芯片、光电子器件芯片、光学器件基片的研发和生产，由于本机结构先进，技术性能较高，使本机不仅适合硅片、玻璃片、陶瓷片、宝石片的曝光，而且也适合易碎片如砷化镓、磷化铟等基片的曝光。本机型采用双面对准单面曝光方式，用于正面对准曝光。

二、技术规格

       既可晶圆正面对准又可反面对准+单面曝光CCD实时双目检焦手动对准

       平台±4°可调节

       对位精度： 最高可对出±500nm(正)±1(反)

       曝光精度：1um

       工作模式：可选接触、接近、密着·操作简单易上手，最快十分钟即可熟练操作

       晶圆尺寸：4/6寸

       曝光均匀度：±3%

       可适用于正胶/负胶的光刻

       可选G/H/I波段输出的曝光光源

       可选更小尺寸(如2寸)和更大尺寸(如12寸)的设备

三、应用

半导体器件

光电半导体器件的开发

MEMS

微流体等领域

先进封装

LED等领域