自动椭偏膜厚仪uSE2200/3000

产品名称：自动椭偏膜厚仪

品牌：Semilab

型号：uSE2200/3000

关键词标签：mapping膜厚仪、自动膜厚仪、光学膜厚仪、椭偏仪

一、简介

1989年，来自匈牙利科学院的科学家创立了Semilab。三十余载风风雨雨、星夜兼程，通过不断的技术创新和合作并购，今天Semilab已经成长为半导体行业检测设备和方案的领先供应商，根植于光伏、半导体、平板显示和科研学术市场，业务遍及全球各地。uSE 系列利用反射干涉和椭圆偏振的原理进行无损测量，可以对整个8/12寸样品进行快速扫描，快速准确测量薄膜厚度、光学常数等信息，并对于膜厚均匀性做出评价。

二、技术规格

测量参数：反射率、膜厚、n&k、薄膜应力等参数

波长：190-950nm（可扩展1700nm）

膜厚范围：1nm-40μm

测量精度：

≤±0.1nm（100nm以下薄膜），重复性误差≤0.05nm

Accuracy:

+/- 0.3% for Oxide 300 Å to 1um

膜厚重复性：

20-100Å < 0.10Å

100-300Å < 0.30Å

300-2000Å <0.50Å

2000Å-1um < 0.025%

（SiO₂/SiN，30 次）

光斑尺寸：40um，支持图形片测量

样品台尺寸：8/12寸

晶圆传输：标准12寸SIMF接口

通讯：支持SECS/GEM

三、应用

应用于硅或化合物芯片前道介质膜、光刻胶等薄膜厚度mapping及均一性测量。